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Cadence和华力微电子共同宣布基于Cadence Encounter数字技术55纳米参考设计流程
来源:互联网 | 作者:中华IC网整理 | 发表于:2013-08-23
华力微电子首次在其已建立的55 纳米工艺平台上实现了从 RTL到GDSII的完整流程,它也是Cadence与上海华力紧密合作的结果。

      Cadence设计系统公司与上海华力微电子有限公司近日共同宣布华力微电子基于Cadence ® Encounter® 数字技术交付出55纳米平台的参考设计流程。从现在起,华力微电子首次在其已建立的55 纳米工艺平台上实现了从 RTL到GDSII的完整流程,它也是Cadence与上海华力紧密合作的结果。


在该流程中所使用的Cadence数字工具包括:

RTL Compiler

Encounter Digital Implementation 系统

Conformal LEC

QRC Extraction

Encounter Timing 系统

Encounter Power 系统

Physical Verification 系统

除了Cadence工具以外,全芯片流程彰显华力微电子55纳米库、存储器IP和IO功能特色。


“通过与Cadence紧密合作,我们可为客户提供基于Cadence和华力微电子先进技术的完整 55纳米参考设计流程,”华力微电子副总栽舒奇表示,“我们期待继续与Cadence合作为客户提供高品质硅晶的最快捷径。”

“华力微电子公司自2010成立以来,有着令人印象深刻的成功纪录,并已成为Cadence 重要合作伙伴,”Cadence公司销售副总栽刘国军表示。“我们共同的努力帮助设计人员有效实施和验证他们设计的同时,又赢得产品投放市场的时间目标。”

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